上海機(jī)械轉(zhuǎn)臺(tái)定制
發(fā)布時(shí)間：2022-03-21 01:39:57
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專家稱，精密檢測(cè)儀器本身是整個(gè)行業(yè)的糧草，而軟件則又是儀器的核心。所以我們要想讓整個(gè)的精密檢測(cè)儀器行業(yè)的發(fā)展取得長(zhǎng)足的進(jìn)步，那么我們就要保證精密測(cè)量軟件的不斷更新和發(fā)展，為儀器的檢測(cè)提供技術(shù)的支持。隨著國際市場(chǎng)需求的不斷擴(kuò)大，與人們生活息息相關(guān)的試驗(yàn)機(jī)行業(yè)也得到了迅猛的發(fā)展，但由于技術(shù)及創(chuàng)新等方面的原因，國內(nèi)試驗(yàn)機(jī)行業(yè)與國外仍有巨大的差距，關(guān)鍵核心技術(shù)匱乏，低水平重復(fù)，產(chǎn)品的穩(wěn)定性及可靠性得不到根本的解決，在高端精密儀器上仍嚴(yán)重依賴進(jìn)口，大量進(jìn)口對(duì)產(chǎn)業(yè)發(fā)展造成不利影響。
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HUE--E1231是哈爾濱工業(yè)大學(xué)、哈爾濱超精密裝備工程技術(shù)中心有限公司聯(lián)合開發(fā)的新一代高精度二維轉(zhuǎn)臺(tái)。10項(xiàng)中國發(fā)明專利技術(shù)授權(quán)國家科技重大專項(xiàng)推介產(chǎn)品在北京空間機(jī)電研究所(508所)、沈陽航空發(fā)動(dòng)機(jī)研究所等單位應(yīng)用HUE--E1231型高精度二維轉(zhuǎn)臺(tái)核心技術(shù)指標(biāo)均通過中國國家量?jī)x產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心檢測(cè)。兩軸空間垂直度優(yōu)于5秒;角回轉(zhuǎn)誤差優(yōu)于1秒;角定位誤差優(yōu)于1秒;HUE--E1231特征與優(yōu)勢(shì)高精度和大承載 采用靜壓氣浮支撐技術(shù)作為回轉(zhuǎn)軸系，轉(zhuǎn)臺(tái)軸系回轉(zhuǎn)誤差小，承載可高達(dá)數(shù)十噸。
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因此，高端通用試驗(yàn)儀器設(shè)備。將集中力量，重點(diǎn)突破一批我國需求量大、嚴(yán)重依賴進(jìn)口、價(jià)格昂貴的試驗(yàn)儀器設(shè)備，攻克若干試驗(yàn)儀器設(shè)備核心技術(shù)和關(guān)鍵部件，帶動(dòng)重要領(lǐng)域試驗(yàn)儀器設(shè)備整體水平提升，打破國外壟斷。第二，前沿重大試驗(yàn)儀器設(shè)備。將依據(jù)我國在世界新一輪科技革命中的戰(zhàn)略部署，研發(fā)若干具有國際領(lǐng)先水平的重大試驗(yàn)儀器設(shè)備，有效支撐我國開展世界一流科學(xué)研究、有特色科學(xué)研究，帶動(dòng)高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)發(fā)展。
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特征與優(yōu)勢(shì)高精度回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)本儀器通過氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)提供回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)，氣浮軸材料選用優(yōu)質(zhì)合金鋼經(jīng)滲氮處理，既具有高精度、耐磨性、高硬度又具有防銹功能.調(diào)心調(diào)傾工作臺(tái)調(diào)心調(diào)傾工作臺(tái)安裝到氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)的臺(tái)面上，具有調(diào)心和調(diào)傾功能，具有剛度高、精度高、結(jié)構(gòu)堅(jiān)固耐用的特點(diǎn).雙橫臂自動(dòng)升降立柱由橫臂及立柱機(jī)構(gòu)組成主要功能是固定傳感器的空間位置.立柱可自動(dòng)或手動(dòng)升降，水平運(yùn)動(dòng)可手動(dòng)進(jìn)行快速大范圍調(diào)整同時(shí)可以微調(diào).通過傳感器夾持機(jī)構(gòu)可將傳感器在測(cè)量平面一定范圍內(nèi)任意調(diào)整姿態(tài)，并可以測(cè)量?jī)?nèi)孔.
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其原理如圖所示。寫入激光經(jīng)過調(diào)制穩(wěn)光、準(zhǔn)直擴(kuò)束后，平行入射到DMD上，被其調(diào)制編碼、分束成獨(dú)立的光陣列;再經(jīng)4?空間濾波系統(tǒng)濾波后，被微光學(xué)陣列中相匹配的子鏡聚焦到涂有光刻膠的基底平臺(tái)上，從而實(shí)現(xiàn)寫入曝光;在寫入光被調(diào)制的同時(shí)，基底平臺(tái)作光柵或回轉(zhuǎn)掃描，實(shí)現(xiàn)微陣列和微結(jié)構(gòu)光學(xué)器件的曝光制作?？茖W(xué)意義及應(yīng)用價(jià)值：利用微光學(xué)陣列替換傳統(tǒng)的直寫物鏡，實(shí)現(xiàn)多光路并行同步寫入，有效提高了寫入效率;同時(shí)由于微光學(xué)透鏡與傳統(tǒng)物鏡相比，像差小、制作容易、易獲得大數(shù)值孔徑，可極大地提高寫入分辨力。
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即向上下游產(chǎn)業(yè)延伸、產(chǎn)品要向研發(fā)設(shè)計(jì)的高端和用戶服務(wù)延伸;要著力發(fā)展高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)集群，重點(diǎn)支持創(chuàng)新成果的產(chǎn)業(yè)化和商品化;要促進(jìn)生產(chǎn)型、科技型服務(wù)業(yè)發(fā)展，特別要加強(qiáng)在研發(fā)資源共享、技術(shù)交易、孵化器等方面的工作力度;創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)的根本是人才，要想盡辦法留住工程技術(shù)、管理、技術(shù)工人等各類人才。座談會(huì)上，郝會(huì)龍向調(diào)研組匯報(bào)了我省裝備制造業(yè)的基本情況、發(fā)展特點(diǎn)、主要工作和成果以及面臨的主要問題。建議國家進(jìn)一步統(tǒng)籌裝備制造業(yè)發(fā)展布局;支持黑龍江省發(fā)展股份合作農(nóng)業(yè)和農(nóng)業(yè)產(chǎn)業(yè)化經(jīng)營;