大連機械轉(zhuǎn)臺廠家
發(fā)布時間：2022-06-12 01:37:38
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核心技術指標通過國家量儀產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗中心檢測主要核心技術指標達到國際同類產(chǎn)品領先水平我公司該產(chǎn)品目前已有18種適應不同應用場合的的型號產(chǎn)品; 在航天、國防和高端超精密裝備制造領域有廣泛應用，可解決我國高端超精密裝備研制、生產(chǎn)和使用中的隔微振技術難題。隨著我國的裝備制造業(yè)向中高端發(fā)展，HUE-G2631將在我國發(fā)展該類高端超精密裝備發(fā)揮重大作用。航天發(fā)動機、航空發(fā)動機、汽車發(fā)動機陣列式氣膜微孔、燃料微噴嘴氣浮設備陣列式微孔氣足、陣列式節(jié)流微孔光東引導微口徑約束、針孔光闌m科學實驗研究校準溯源、工藝改進
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超精密制造已建成22000m2的研發(fā)及生產(chǎn)基地，包括1920㎡的超潔凈超精密裝配與測量車間，2820㎡的精密/超精密加工車間，2110㎡的精密裝校車間，約2100㎡的光電系統(tǒng)研發(fā)生產(chǎn)車間;配套超潔凈溫度/濕度控制機組，大型超精密氣浮隔微振設施，三坐標行吊車等配套設施。投資7000余萬元購置德國五軸聯(lián)動數(shù)控鏜銑加工中心、美國摩爾坐標磨床，光學曲線磨床，精密平面磨床，立式加工中心，三坐標等大型精密/超精密加工與測量設備70余臺(套)，具備了設計、研發(fā)、中試和生產(chǎn)大型高端超精密儀器與裝備產(chǎn)品的能力。公司已通過GJB9001B-2009《質(zhì)量管理體系》認證，以顧客為關注焦點，與客戶廣交朋友，不斷持續(xù)改進，以顧客滿意為目標。
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由我公司承擔的上海微電子裝備有限公司(SMEE)的光刻機計量框架和基礎框架制造任務于2017年2月13日通過預驗收與交付，這標志著我公司對于精密復雜構件的制造能力提升至一個新的臺階。光刻機被稱為“智能制造業(yè)中的珠穆朗瑪峰”，其中的計量框架是整個光刻機的工作基準平臺，尺寸龐大(2.2m′1.9m)，結構復雜，僅定位銷孔一百二十多個；螺紋孔四百多個；基礎框架是整個光刻機的基本支持體，尺寸達2.75m′1.86m′1.37m，其螺紋孔有三百多個。計量框架與基礎框架中對任何加工部位的位置、形狀、尺寸、表面形貌等要求相當高，正常的制造周期為6個月。
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李力一行還考察了可調(diào)諧(氣體)激光重點實驗室，聽取了實驗室主要研究方向、研究內(nèi)容介紹。李力肯定了項目進展情況，并鼓勵科研人員努力工作，確保項目順利完成。為做好國家首批國家重大科學儀器開發(fā)專項項目驗收工作，6月26日至27日，科技部科研條件與財務司副司長吳學梯、工業(yè)和信息化部科技司副司長李力先后來我公司考察，了解我公司的國家重大科學儀器設備開發(fā)專項項目。工業(yè)和信息化部、省工信委相關領導，我公司董事長等參加現(xiàn)場考察。
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HUE--E1231是哈爾濱工業(yè)大學、哈爾濱超精密裝備工程技術中心有限公司聯(lián)合開發(fā)的新一代高精度二維轉(zhuǎn)臺。10項中國發(fā)明專利技術授權國家科技重大專項推介產(chǎn)品在北京空間機電研究所(508所)、沈陽航空發(fā)動機研究所等單位應用HUE--E1231型高精度二維轉(zhuǎn)臺核心技術指標均通過中國國家量儀產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗中心檢測。兩軸空間垂直度優(yōu)于5秒;角回轉(zhuǎn)誤差優(yōu)于1秒;角定位誤差優(yōu)于1秒;HUE--E1231特征與優(yōu)勢高精度和大承載 采用靜壓氣浮支撐技術作為回轉(zhuǎn)軸系，轉(zhuǎn)臺軸系回轉(zhuǎn)誤差小，承載可高達數(shù)十噸。