上海超精密氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)公司
發(fā)布時(shí)間：2022-10-11 01:35:37
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其原理如圖所示。寫(xiě)入激光經(jīng)過(guò)調(diào)制穩(wěn)光、準(zhǔn)直擴(kuò)束后，平行入射到DMD上，被其調(diào)制編碼、分束成獨(dú)立的光陣列;再經(jīng)4?空間濾波系統(tǒng)濾波后，被微光學(xué)陣列中相匹配的子鏡聚焦到涂有光刻膠的基底平臺(tái)上，從而實(shí)現(xiàn)寫(xiě)入曝光;在寫(xiě)入光被調(diào)制的同時(shí)，基底平臺(tái)作光柵或回轉(zhuǎn)掃描，實(shí)現(xiàn)微陣列和微結(jié)構(gòu)光學(xué)器件的曝光制作。科學(xué)意義及應(yīng)用價(jià)值：利用微光學(xué)陣列替換傳統(tǒng)的直寫(xiě)物鏡，實(shí)現(xiàn)多光路并行同步寫(xiě)入，有效提高了寫(xiě)入效率;同時(shí)由于微光學(xué)透鏡與傳統(tǒng)物鏡相比，像差小、制作容易、易獲得大數(shù)值孔徑，可極大地提高寫(xiě)入分辨力。
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在保證焦斑質(zhì)量的同時(shí)，可獲得大的曝光區(qū)域;引入光強(qiáng)宏微雙重調(diào)制裝置，提高了曝光光強(qiáng)的調(diào)制分辨力，從而解決控制輪廓精度的問(wèn)題;通過(guò)空間光調(diào)制器依據(jù)像素部對(duì)寫(xiě)入激光分束，解決了多光路并行同步直寫(xiě)光束的控制問(wèn)題。該技術(shù)特別適用于微陣列和微結(jié)構(gòu)光學(xué)器件制作，具有大范圍、高精度激光寫(xiě)入的優(yōu)點(diǎn)。研究目的：研究一種基于多個(gè)子孔徑干涉拼接的全域非球面超精密測(cè)量技術(shù)，解決干涉儀測(cè)量范圍受限和分辨率受限問(wèn)題，實(shí)現(xiàn)局部變化較大的凸凹面深度非球面面型的高精度測(cè)量。
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超精密氣浮直線基準(zhǔn)圓柱度和直線度的測(cè)量，不僅要求儀器主軸的回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)精度高，直線運(yùn)動(dòng)基準(zhǔn)的精度要求也非常高。經(jīng)過(guò)優(yōu)化設(shè)計(jì)的圓柱度儀導(dǎo)軌結(jié)構(gòu)，提供了極高的直線運(yùn)動(dòng)精度(0.05~0.1μm/100mm)，在整體結(jié)構(gòu)上進(jìn)行了精心設(shè)計(jì)，保障了儀器整體具有非常高的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。穩(wěn)定的花崗巖基座圓柱度儀的基座采用天然花崗巖材質(zhì)，經(jīng)過(guò)億萬(wàn)年老化沉積，花崗巖材質(zhì)質(zhì)地均勻，強(qiáng)度高，應(yīng)力變形小，對(duì)溫度敏感性小。經(jīng)過(guò)精加工保證各零、部件的機(jī)械位置，基座具有優(yōu)良的穩(wěn)定性和剛度。
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核心技術(shù)指標(biāo)通過(guò)國(guó)家量?jī)x產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心檢測(cè)主要核心技術(shù)指標(biāo)達(dá)到國(guó)際同類(lèi)產(chǎn)品領(lǐng)先水平我公司該產(chǎn)品目前已有18種適應(yīng)不同應(yīng)用場(chǎng)合的的型號(hào)產(chǎn)品; 在航天、國(guó)防和高端超精密裝備制造領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用，可解決我國(guó)高端超精密裝備研制、生產(chǎn)和使用中的隔微振技術(shù)難題。隨著我國(guó)的裝備制造業(yè)向中高端發(fā)展，HUE-G2631將在我國(guó)發(fā)展該類(lèi)高端超精密裝備發(fā)揮重大作用。航天發(fā)動(dòng)機(jī)、航空發(fā)動(dòng)機(jī)、汽車(chē)發(fā)動(dòng)機(jī)陣列式氣膜微孔、燃料微噴嘴氣浮設(shè)備陣列式微孔氣足、陣列式節(jié)流微孔光東引導(dǎo)微口徑約束、針孔光闌m科學(xué)實(shí)驗(yàn)研究校準(zhǔn)溯源、工藝改進(jìn)
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科學(xué)意義及應(yīng)用價(jià)值：融合了衍射光學(xué)技術(shù)和超分辨光瞳濾波技術(shù)的各自特性，其與傳統(tǒng)的環(huán)形透鏡式共焦測(cè)量系統(tǒng)相比，在達(dá)到同等橫向分辨力的情況下，由于整形環(huán)形光技術(shù)的采用使共焦顯微鏡的橫向和軸向強(qiáng)度響應(yīng)中心峰值的能量損失減小到1/(1-ε2)2倍，同時(shí)環(huán)形透鏡內(nèi)環(huán)邊緣的衍射對(duì)測(cè)量系統(tǒng)造成的影響，橫向分辨力優(yōu)于0.2μm。本技術(shù)涉及光學(xué)掃描顯微成像及微觀掃描測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域，可用于測(cè)量樣品的三維表面形貌、三維微細(xì)結(jié)構(gòu)、微臺(tái)階、微構(gòu)槽、集成電路線寬等。