佳木斯機(jī)械轉(zhuǎn)臺(tái)公司
發(fā)布時(shí)間：2022-11-24 01:35:09
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由于SMEE的任務(wù)要求緊張，我公司僅用了三個(gè)月的時(shí)間完成了制造任務(wù)。2017年2月初，SMEE的質(zhì)量控制人員、設(shè)計(jì)人員、工藝人員在我公司進(jìn)行了驗(yàn)收測(cè)試，歷經(jīng)5天的時(shí)間完成了整個(gè)測(cè)試。產(chǎn)品經(jīng)過清潔、包裝等工作，于2017年2月15日由專車運(yùn)往上海。新春伊始北京大學(xué)教授、中國(guó)科學(xué)院程和平院士一行在完成了對(duì)哈工大的訪問之后,于2017年2月15日,在譚久彬的陪同下到我公司參觀考察。程和平院士一行聽取了譚久彬教授關(guān)于公司基礎(chǔ)能力、研發(fā)能力、生產(chǎn)能力、典型產(chǎn)品等情況的介紹，考察了極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝專項(xiàng)、國(guó)家重大科學(xué)儀器研發(fā)專項(xiàng)等的研制情況。
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基本原理：在傳統(tǒng)牛頓流體的雷諾方程基礎(chǔ)上，將惠普爾理論與壓力對(duì)數(shù)分布假設(shè)相結(jié)合，對(duì)傳統(tǒng)氣體潤(rùn)滑理論進(jìn)行修正和完善。建立基于動(dòng)靜壓復(fù)合的超精密氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)(CTGB)的歸一化解析模型，在以剛度為目標(biāo)函數(shù)的前提下，對(duì)結(jié)構(gòu)參數(shù)進(jìn)行全局優(yōu)化，從而得到基于動(dòng)靜壓復(fù)合的超精密氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)的結(jié)構(gòu)參數(shù)?？茖W(xué)意義及應(yīng)用價(jià)值：對(duì)超精密氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)中動(dòng)靜壓之間的耦合規(guī)律進(jìn)行建模。解析表述了動(dòng)靜壓之間的壓力耦合、結(jié)構(gòu)耦合以及壓力與結(jié)構(gòu)之間的交叉耦合。該技術(shù)大幅度提高了氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)的剛度、承載能力和抗擾動(dòng)能力，提高了氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)的綜合性能。實(shí)驗(yàn)表明：與傳統(tǒng)氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)(STGB)相比，承載能力提高4倍以上，剛度提高6倍以上，流量略有增大，性能曲線對(duì)比見Fig.1-3。
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HUE--D1331系列超精密氣浮導(dǎo)軌主要用于高精度測(cè)量?jī)x器、光學(xué)檢測(cè)儀器、精密/超精密光機(jī)電一體化裝備、精密/超精密機(jī)床等先進(jìn)裝備制造領(lǐng)域，是精密/超精密儀器與制造裝備中保證高精度直線運(yùn)動(dòng)導(dǎo)向和定位的關(guān)鍵部件。HHUE--D1331氣浮導(dǎo)軌已成系列，其有效行程從50mm至3000mm截面尺寸主要從50mm×50mm至250mm×350mm(見表2);該系列氣浮導(dǎo)軌具有優(yōu)異的直線運(yùn)動(dòng)精度和良好的剛度，直線運(yùn)動(dòng)誤差小于0.03μm~0.1μm/50mm，0.05μm~0.2μm/100mm等。特殊需求可單獨(dú)設(shè)計(jì)。
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核心技術(shù)指標(biāo)通過國(guó)家量?jī)x產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心檢測(cè)主要核心技術(shù)指標(biāo)達(dá)到國(guó)際同類產(chǎn)品領(lǐng)先水平我公司該產(chǎn)品目前已有18種適應(yīng)不同應(yīng)用場(chǎng)合的的型號(hào)產(chǎn)品; 在航天、國(guó)防和高端超精密裝備制造領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用，可解決我國(guó)高端超精密裝備研制、生產(chǎn)和使用中的隔微振技術(shù)難題。隨著我國(guó)的裝備制造業(yè)向中高端發(fā)展，HUE-G2631將在我國(guó)發(fā)展該類高端超精密裝備發(fā)揮重大作用。航天發(fā)動(dòng)機(jī)、航空發(fā)動(dòng)機(jī)、汽車發(fā)動(dòng)機(jī)陣列式氣膜微孔、燃料微噴嘴氣浮設(shè)備陣列式微孔氣足、陣列式節(jié)流微孔光東引導(dǎo)微口徑約束、針孔光闌m科學(xué)實(shí)驗(yàn)研究校準(zhǔn)溯源、工藝改進(jìn)
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研究目的：研究一種多點(diǎn)并行曝光、且曝光面上各曝光點(diǎn)曝光可控及曝光強(qiáng)度宏微雙重可調(diào)的高分辨力的激光直接寫入新技術(shù)，以解決傳統(tǒng)激光直寫單點(diǎn)曝光制作效率低的問題，提高微陣列和微結(jié)構(gòu)光學(xué)器件的制作效率?；驹恚憾喙獍呖煽夭⑿屑す庵睂懙幕舅枷胧且晕⒐鈱W(xué)鏡陣列作為直寫物鏡，將寫入激光分別聚焦為多個(gè)高分辨力寫入光斑，以分散直寫任務(wù);利用數(shù)字微鏡DMD控制各子光斑是否曝光，并采用聲光調(diào)制器進(jìn)行宏微雙重調(diào)制寫入光強(qiáng)。